隨著芯片生產(chǎn)制造開始更多地使用EUV光刻技術(shù)進(jìn)行先進(jìn)技術(shù)制程的大批量制造（HVM），對(duì)EUV光罩無缺陷的要求比以往任何時(shí)候都要嚴(yán)格。BEAUFORT的光罩盒等產(chǎn)品已經(jīng)通過企業(yè)全面認(rèn)證并大批量實(shí)際使用，可用于他們的最新一代光刻機(jī)，并展現(xiàn)了出色的光罩保護(hù)性能，包括解決最關(guān)鍵的微粒污染，BEAUFORT的BFT-6000B也因此讓客戶能夠安全地過渡到最先進(jìn)的光刻工藝所需的越來越小的線寬。

為了在光刻機(jī)中實(shí)現(xiàn)上述性能，BEAUFORT開發(fā)了用于接觸光罩和控制環(huán)境的新技術(shù)。BEAUFORT BFT-6000B代表了缺陷率改進(jìn)方面的得到重大突破，利益于此，先進(jìn)技術(shù)制程客戶可以專注于提高效率和產(chǎn)量，與國內(nèi)光刻機(jī)企業(yè)的良好互動(dòng)和測試確保了符合最先進(jìn)光刻機(jī)的要求。

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